TOPCon tecnología de la célula se ha convertido en uno de los dos líderes de la próxima generación de opciones después de mono PERC. Pero para el n-tipo de arquitectura se convierta verdaderamente en un rival, PERC, de alta calidad y costo-efectiva de las tecnologías de producción debe convertirse resuelto.

TOPCon, que de lo contrario va por una variedad de nombres, es una abreviatura de Túnel de Óxido de Pasivado de Contactos. Que consiste en depositar en una escala nanométrica de la capa de óxido de silicio, seguido por una gruesa capa de silicio policristalino, entre la oblea de silicio y contactos de metal. Las capas de reducir la carga de la recombinación entre la hostia y los contactos, aumentar la vida útil portador y que resulta en una eficiencia de conversión aumento de alrededor del 0,5%.

Una de las preguntas sin respuesta respecto de TOPCon es, precisamente, el que los procesos de producción resultará ser más eficaces en la producción a gran escala. Los países Bajos' Tempress ha sido uno de los más destacados proveedores de equipos para TOPCon productores en los últimos años a través de una prolongada colaboración con TNO Energía de Transición, antes de la REC – el Centro de Investigación sobre Energía de los países Bajos.

Tempress suministros de baja presión de deposición de vapor químico (LPCVD) herramientas para TOPCon de la producción. En septiembre de 2018, anunció que estaba suministrando Trina con su LPCVD poli equipo, sin embargo no ha habido seguimiento de pedidos, anunció públicamente desde entonces. En el momento, Trina sí se había informado de que el suministro de alrededor de 1 GW de mejor Corredor de proyectos en China con la implementación de los módulos de su tipo-n de TOPCon de la tecnología.

Sin embargo, no puede haber inconvenientes para LPCVD, y Trina dijeron los ingenieros pv magazine en diciembre de 2018, que se estaba experimentando frustraciones en su TOPCon procesos, observando que las líneas de producción puede ser interrumpido por una tubería de grietas y la deposición de los reactores de convertirse en "polvo" con "pequeñas partículas de silicio".

"El impacto en el mercado puede y debe ser alta, porque de TOPCon es una actualización existente mono PERC líneas", señaló Simon Precio, el CEO de Exawatt. En la prestación de contexto, Precio señaló que Exawatt anteriormente advertido en contra de deposición de capas atómicas (ALD) para PERC producción, debido al bajo rendimiento. Sin embargo, una vez que el rendimiento reto fue dirigida, ALD se movió rápidamente en la corriente principal de la producción basada en sus ventajas inherentes en términos de control superior de espesor de la película.

"Así que, si PECVD es intrínsecamente un proceso mejor, entonces usted podría hacer el argumento de que el reto para la productividad puede ser y será conocido", dijo el Precio.